ASML meldet Rekordquartal – Intel setzt High-NA-EUV erstmals in der Serienproduktion ein
ASML hat im zweiten Quartal 2026 einen Umsatz von 9,3 Milliarden Euro erzielt und die Jahresprognose erneut angehoben. Parallel dazu gab Intel bekannt, als erster Chiphersteller High-NA-EUV-Lithografiesysteme in der Massenproduktion einzusetzen.
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Der niederländische Lithografieausrüster ASML hat seine Rekordjagd fortgesetzt. Im zweiten Quartal 2026 erzielte das Unternehmen einen Umsatz von 9,3 Milliarden Euro und einen Nettogewinn von 2,9 Milliarden Euro. Die Bruttomarge lag bei 54 Prozent. Zum Vergleich: Im ersten Quartal 2026 hatte ASML noch 8,8 Milliarden Euro umgesetzt.
Für das dritte Quartal stellt ASML einen Umsatz zwischen 11 und 12 Milliarden Euro in Aussicht, bei einer Bruttomarge von 55 bis 57 Prozent. Der Vorstand hob die Prognose für das Gesamtjahr 2026 zum zweiten Mal in diesem Jahr an: Statt der bisher erwarteten Werte rechnet ASML nun mit einem Jahresumsatz von 43 bis 45 Milliarden Euro.
Ein wesentlicher Treiber ist das Memory-Segment, dessen Umsatz im Jahresvergleich voraussichtlich um 75 Prozent zulegen wird. Gleichzeitig sinkt der Anteil der Verkäufe nach China: Er soll 2026 auf 13 Prozent des Gesamtumsatzes fallen. ASML plant zudem, die Produktionskapazität für EUV-Systeme deutlich auszubauen. Für 2027 strebt das Unternehmen eine Kapazität von mindestens 85 Systemen an – ein Anstieg um 30 Prozent gegenüber 2026. Im Jahr 2028 sollen es 110 Systeme sein, was einer weiteren Steigerung um 30 Prozent entspricht. Bei den Low-NA-EUV-Anlagen hob ASML das Auslieferungsziel für 2026 auf 65 Einheiten an, ein Plus von 45 Prozent im Vergleich zum Vorjahr. Bei den DUV-Systemen sollen bis zu 130 Maschinen ausgeliefert werden.
Parallel zur Vorlage der Quartalszahlen gab Intel bekannt, als erster Chiphersteller High-NA-EUV-Lithografie in der Serienfertigung einzusetzen. Konkret nutzt Intel die neuen Systeme für ausgewählte Schichten seiner Core-Ultra-Serie-3-Prozessoren (Codename Panther Lake), die auf dem 18A-Fertigungsprozess basieren. Die Produktion läuft in Intels Forschungs- und Entwicklungsfabrik in Hillsboro, Oregon. Intel verfügt dort über eine EXE:5000 und mindestens eine EXE:5200 High-NA-EUV-Maschine. Die Serienfertigung des 18A-Prozesses für Kunden erfolgt allerdings im Stammwerk in Arizona.
Laut Intel liegen die Ausbeuten der High-NA-EUV-Schichten auf dem Niveau der Standard-EUV-Schichten (NXE) für dieselben Lagen. Die neuen Anlagen kosten rund 400 Millionen US-Dollar pro Stück – etwa doppelt so viel wie ein Standard-EUV-System. Eine breite Einführung der Technologie ist für Intels 14A-Prozess und folgende Generationen geplant.
ASML-Chef Christophe Fouquet kommentierte: „Mit erhöhter Auflösung und besserer Prozesskontrolle markiert die Einführung von High-NA-EUV eine bedeutende Entwicklung in der Halbleiterlithografie.“ Naga Chandrasekaran, EVP von Intel Foundry, ergänzte: „Die Qualifizierung von High-NA-EUV für ausgewählte Produktschichten des 18A-Prozesses gibt Kunden eine höhere Ausbeute, während Intel zukünftige Fertigungsoptionen entwickelt.“
Die Anleger reagierten positiv: Die ASML-Aktie stieg am Tag der Bekanntgabe um über 7 Prozent, die Intel-Aktie legte um rund 4,5 Prozent auf etwa 110 US-Dollar zu.